图表内容
图表63应用材料重要产品推出时间轴
是否为旗舰设备
19717000 epi reactor
极大改进工业沉积的质量
提高了双极器件的产量
否;投产硅片制造失败
9787600 epi reactor
早期7000杀列系统的一个改进版本。它成为应用材料是;进入离子刻蚀市场成功
EPⅠ生产线的旗舰。760是一个辐射热墙系统
这意味
着它使用了钟形罐外的灯来提供反应能量
能包含更多
晶圓
更经济
和同类相比有竞争优势。7600成为业界
的标准载体
直到单晶圆平台系统( single wafer
pl
systems)发展
1981AM8100 Batch干等离子体蚀刻的批处理技术
进入刻蚀市场
否;投资光刻机领域失败
1985 Precision Etch 8300
堤高了自动化水平和颗粒控制
是;并购离子注入成功
1992 The Centu
Centura是1992年最新款
可同时容纳DCVD和是;%6年后并购调整成功
996 The Optima
金属CVD工艺。以0.5微米及以下规格的高温薄膜
The produce
市场及未来工艺应用为目标。该平台结合了高真空能力
和先进的机器人技术
数据来源:公司年报、广证恒生
