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中一科技超薄铜箔专利各样品性能-小牛行研(hangyan.co)-AI驱动的行业研究数据服务

中一科技超薄铜箔专利各样品性能

研究报告节选:

中一科技经过不断的技术研发与摸索，通过改善各项工艺指标，成功研发出 4.5μm 超薄铜箔的生产方法。比如其 2019 年申请的发明专利 CN110438531A 中，选择铜离子浓度为65～85g/L，硫酸浓度 110～140g/L，氯离子浓度 25～45mg/L；铜电解液温度为 40～60℃，电流密度为 4000～7500A/㎡；另外还有各项个性化设计的参数指标。最终制得厚度为4.5μm，面密度、抗拉强度、延伸率、粗糙度、抗高温氧化性等各项指标均达标的超薄锂电铜箔。
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最后更新: 2022-07-01

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中一科技 | 西部证券 | 2022-07-01 | 60个图表

图表内容

表13：中一科技超薄铜箔专利各样品性能
样品1
样品2
样品3
对照样品
厚度/um
4.6
4.5
4.8
6.2
面密度/gm2
38.5
39.
39.7
39.9
航拉强度/Mpa
延伸率%
5.2
1.4
光面粗糙度/μm
0.192
0.212
0.230
0.284
毛面粗糙度/μm
1.462
1.595
1.628
1.709
140c/30min
140'c/30min
140c/30min
120c/30min
未氧化状态时间)
160c/10min
160'c/10min
160c/10min
140c/10min
资料来源：中一科技专利CN110438531A
西部证券研发中心

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