图表内容
表12:SiC器件相比硅基半导体的优势
优势
具体说明
SiC材料的电子饱和漂移速率是Si的2倍,有助于提升器件的工作频率:高临
界击穿电场的特性使其能够将MOSFET带入高压领域,克服IGBT在开关过程中
可实现高频开关
的拖尾电流问题,降低开关损耗和整车能耗,减少无源器件如电容、电感等的
使用,从而减少系统体积和重量。
SiC的禁带宽度、热导率约是Si的3倍,可承受温度更高,高热导率也将带来
耐高温,散热能力强
功率密度的提升和热量的更易释放,冷却部件可小型化,有利于系统的小型化
和轻量化。