图表内容
图31:掩膜版制造工艺流程
蚀刻
清洗
4黄光
玻璃
资料来源:智通财经网,
民生证券研究院
研究报告节选:
直写光刻技术能够在计算机控制下按照设计好的图形直接成像,容易修改且制作周期较短,成为目前泛半导体掩膜版制版的主流技术。其中,激光直写光刻技术是指计算机控制的高精度激光束根据设计的图形聚焦至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜,直接进行扫描曝光的精密、微细、智能加工技术,主要应用于FPD 制造所需的掩膜版制版及 IC 制造所需的中低端掩膜版制版领域。带电粒子直写光刻技术与激光直写光刻技术的原理相同,只是将辐射源用带电粒子束取代激