图表内容
表5：武汉顾光椭偏仪系列产品
设备名称
设备用途
设备简介
可一键快速测量表征各式光
采用高性能进口复合光源，光谱覆盖可见到近红外范围(400-800n;高精度旋转
SE-VE光谱椭偏仪
学薄膜膜厚以及光学常数等
补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谐数据高速采集；数百种材料数据
信息
库、多种算法模型库，涵盏了目前绝大部分的光电材料：
采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围(193-2500nm小；可实现
可应用于各种各向同性/异性
穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加精准；基于双旋转补
薄膜材料膜厚、光学纳米光
偿器配置，可一次测量获得全穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更
栅常数以及一维/二雏纳米光
ME-L穆勒矩阵椭偏仪
加丰富全面测量信息；颐光核心技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段
栅材料结构的表征分析，代
光谱；数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；集
表当今椭偏行业高精尖技术
成对纳米光栅的分析，可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙
水平。
度等几何形貌信息：
可应用透明各类衬底上的减
反膜、导电膜等薄膜的n/k/d
可定制光斑尺寸，最小可达30u:超快测量，单次测量时间小于0.5秒；系列配
SE-m光谱椭偏仪
测量，完美适用于微区图形
置灵活，支持功能定制设计；结构紧凑，更适应在线集成测量
的各种光学参数解析
