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连城数控ALD工艺炉高速导片机-小牛行研(hangyan.co)-AI驱动的行业研究数据服务

连城数控ALD工艺炉高速导片机

研究报告节选:

ALD（原子层沉积）设备是将物质以单原子层的形式一层一层沉积在基底表面，每镀膜一次为一个原子层，镀膜 10 次厚度约为 1nm。从应用的角度来讲，与传统的薄膜生长工艺相比，ALD 有几个很重要的优势：1）保形性好，适于在深沟槽和多孔状结构表面沉积；2）无针孔和16 / 40
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最后更新: 2023-03-22

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连城数控 | 长城国瑞证券 | 2023-03-22 | 73个图表

图表内容

图21：连城数控ALD工艺炉高速导片机

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