2022年积塔半导体PVD中标情况

研究报告节选:

（2）CVD& ALD 设备：1）CVD：公司已成功覆盖 LPCVD、APCVD 等设备，其中 LPCVD 已形成批量供应，并持续拓展产品系列；2）ALD：2018 年实现首台国产 ALD的销售，可实现 28-14nmFinFET 和 3D NAND 原子层沉积工艺要求，先发优势明显。