光刻机曝光系统与投影物镜-小牛行研(hangyan.co)-AI驱动的行业研究数据服务

光刻机曝光系统与投影物镜

研究报告节选:

高用量、大体量的光刻透镜:典型的投影物镜可包含高达 30 块镜片,60 个光学表面,直径最大达 0.8m,重量可达 500kg。数值孔径是衡量透镜系统收集和聚焦光线能力的参数,直接影响光刻机的成像精度。单个透镜本身会导致相差,因此提高数值孔径方法之一是将多个精度更高的透镜和反射镜集成。ASML DUV高端投影物镜的像差则被控制在 2nm。这也导致高精度光刻机镜片用量与体量极大,透镜组目前数值孔径最大的光学系统高度超过 1.2 米,重量超过 1 吨。目前主流的光刻机镜片在 20 片以上。
最后更新: 2023-06-01

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茂莱光学 | 德邦证券 | 2023-06-01 | 43个图表

图表内容


图12:光刻机曝光系统与投影物镜
pupll shaping optics
beam stearing
资补来源:半导体之芯公众号,德邦研究所