【行业研究报告】拓荆科技-半导体薄膜沉积设备国产龙头扬帆起航

投资要点
拓荆聚焦薄膜沉积设备，突破海外垄断。拓荆科技主要产品包括等离子体增强化
学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积
（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成
电路制造产线。公司核心技术人员具有海外设备厂商的丰富工作经验，带领公司
PECVD产品突破海外厂商垄断。
薄膜沉积设备市场空间大，拓荆具有领先优势。薄膜沉积设备约占前道半导体设
备投资额的25%，是半导体设备中的重要细分品类。根据MaximizeMarket
Research统计，2020年全球薄膜沉积设备市场规模在172亿美元，并预计2025
年达到340亿美元，复合增速为14.6%。根据Gartner数据，在薄膜沉积设备市
年达到340亿美元，复合增速为14.6%。根据Gartner数据，在薄膜沉积设备市
场中，PECVD份额占比近三分之一。2022年1-5月，我们统计发现拓荆科技在
国内薄膜沉积设备中标份额快速上升到14%，领先于其他国内厂商。
进军先进制程，公司逐步成长为薄膜沉积平台型公司。公司IPO募集资金将投资
于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备
研发与产业化项目。截至2021年9月，公司在国内外和其他地区已授权专利共计
169件，核心技术有8项，其中大部分专利和核心技术可以在PECVD、ALD、
SACVD这三种产品上适用。公司募投项目的投资建设将进一步增强公司在先进制
程薄膜沉积设备的实力。
投资建议。我们预计公司将在2022年至2024年实现收入12.77/18.30/25.43亿
元，对应当前PS估值14.7/10.3/7.4倍；归母净利润1.33/2.33/3.67亿元，对应
当前PE估值140.9/80.5/51.1倍。考虑半导体设备行业高增长、公司产品的稀缺
风险提示：公司新产品研发进度不及预期、客户对公司设备验收周期过长、下游晶
圆厂扩产放慢、半导体设备行业竞争加剧风险。
股票数据
总股本(百万股)：
126.48
流通A股(百万股)：
26.17
52周内股价区间(元)：89.71-161.90
总市值(百万元)：18,782.10
总资产(百万元)：2,887.62