【行业研究报告】中微公司-营收持续高增，设备平台化布局渐丰

中微公司发布2024年年报。2024年公司实现营收90.65亿元，yoy+44.7%，实现归母净
利润16.16亿元，yoy-9.5%，实现扣非后归母净利润13.88亿元，yoy+16.5%，实现毛利
率41.06%，净利率17.8%。公司2024年研发投入达24.52亿元，yoy+94.31%，相较于
率41.06%，净利率17.8%。公司2024年研发投入达24.52亿元，yoy+94.31%，相较于
2023年增长11.9亿元。单季度来看，公司24Q4实现营收35.58亿元，yoy+60.11%，
qoq+72.76%，实现归母净利润7.03亿元，yoy+12.24%，qoq+77.32%，实现毛利率39.26%，
实现净利率19.73%。公司2024年人均销售超400万元，达到设备产业国际先进水平。
刻蚀设备装机量高增，市占率持续提升。2024年公司刻蚀设备实现营收72.77亿元，同比
增长54.72%，近四年收入年均增长超50%。公司刻蚀设备可覆盖95%以上的刻蚀应用需
求。分产品来看：
1）CCP设备：2024年全年CCP刻蚀设备生产付运超过1200反应台，创历史新高，较
2023年增长逾100%，累计装机量超过4000反应台，连续十年保持大于30%的年平
均复合增长率。双反应台PrimoD-RIE、PrimoAD-RIE、PrimoAD-RIEe，单反应台
PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，具有动态可调电极间距
功能的双反应台PrimoSD-RIE进入先进逻辑生产线验证关键工艺。用于高精度高选择
比刻蚀工艺的单反应台产品PrimoHD-RIEe，和用于超高深宽比刻蚀工艺的PrimoUD-
RIE实现规模付运，已有的刻蚀产品已经对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28
纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。
2）ICP设备：在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片
和器件的50多个客户的生产线上量产，并继续验证更多ICP刻蚀工艺。2024年，ICP
刻蚀设备在客户端的累计安装数达到1025个反应台，近四年年均增长大于100%，适
用于更高深宽比结构刻蚀的NanovaLUX-WT在客户端投入量产，NanovaLUX-Cryo在
客户端认证中。下一代ICP刻蚀设备PrimoNanova2G在实验室已经搭建完成Alpha
反应腔，正展开工艺开发。
MOCVD设备保持行业领先地位，拓宽下游应用领域。2024年MOCVD设备实现营收3.79
亿元。公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位。其中PRISMOUniMax产品
凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，在Mini-LED显示外延片生产设备领域处于国
际领先。Micro-LED应用的设备样机PreciomoUdx验证顺利，已基本满足客户生产要求。同
时，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，正与多家领先客户开展商务洽
谈，目前已付运样机至国内领先客户开展生产验证。
LPCVD设备实现首台销售，打开薄膜沉积市场。公司已开发出六款薄膜沉积产品推向市场，
钨系列薄膜沉积产品：CVD钨设备，HAR钨设备和ALD钨设备，可覆盖存储器件所有钨应
用，已通过关键存储客户端现场验证，并获得客户重复量产订单。LPCVD设备2024年实现
首台销售，全年设备销售约1.56亿元，LPCVD薄膜设备累计出货量已突破150个反应台，
2024年得到约4.76亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场。
股权激励深度绑定优秀人才，彰显公司发展信心。为了进一步建立、健全公司长效激励机制，
充分调动公司员工的积极性，公司预计进行新一期股权激励，拟向激励对象授予不超过1200
万股限制性股票，其中首次授予不超过1000万股，激励计划首次授予的限制性股票考核年
度为2025-2028四个会计年度，每个会计年度考核一次。以公司2024年度的营业收入为基
数，根据各考核年度的营业收入累计值定比基数的年度累计营业收入增长率，确定各年度的
业绩考核目标对应的公司层面归属比例，以对标企业（Gartner公布的相应年度全球半导体
设备厂商销售额排名前五位的公司）算术平均增长率为考核目标，彰显公司长期发展信心。
盈利预测与投资建议：我们预计公司2025-2027年实现营收120.7/158.0/205.4亿元，实现
风险提示：产品进展不及预期；下游需求不及预期；贸易摩擦加剧。
股票信息
行业半导体
04月17日收盘价（元）191.50