【行业研究报告】盛美上海-2025年三季报点评：Q1-Q3业绩延续高增，平台化布局加速

投资要点
◼公司业绩稳健增长，Q1-Q3业绩同比+67%：2025Q1-Q3公司实现营收
51.5亿元，同比+29.4%，主要系公司受益于中国半导体行业设备需求持
续旺盛，并在新客户拓展和新市场开发方面取得了显著成效。期间公司
实现归母净利润12.7亿元，同比+67.0%；扣非净利润为11.1亿元，同
比+49.5%。Q3单季营收为18.8亿元，同比+19.6%，环比+4.0%；归母
净利润为5.7亿元，同比+81.0%，环比+26.9%；扣非净利润为4.3亿元，
同比+41.4%，环比+1.6%。
◼Q3净利率持续提升，维持高研发投入：2025Q1-Q3公司毛利率为49.5%，
同比+1.1pct；销售净利率为24.6%，同比+5.5pct。期间费用率为25.6%，
同比-1.8pct，其中销售费用率为8.3%，同比+0.3ct，管理费用率为4.0%，
同比-1.6pct，研发费用率为13.4%，同比-0.2pct，财务费用率为-0.1%，
同比-0.3pct。期间公司研发投入8.7亿元，同比+41.9%。Q3单季毛利率
同比-0.3pct。期间公司研发投入8.7亿元，同比+41.9%。Q3单季毛利率
为47.5%，同环比+2.4pct/-3.2pct；销售净利率为30.3%，同环比
+10.3pct/+7.4pct。
◼存货略增，经营性现金流环比转正：截至2025Q3末，公司合同负债为
6.9亿元，同比-25.2%，存货为46.3亿元，同比+6.2%。2025Q3公司经
营性活动现金流为0.7亿元，环比转正。
◼平台化布局清洗、电镀、涂胶显影等设备，有望充分受益于HBM新增
清洗、电镀需求：公司坚持推行“技术差异化”和“产品平台化”的战
略方针，成功布局清洗、电镀、涂胶显影、立式炉管、PECVD以及化
合物半导体刻蚀等多种设备。（1）清洗设备：公司单片清洗设备国内市
占率超30%，其SAPS、TEBO兆声清洗技术以及Tahoe高温硫酸清洗
技术均已达到国际领先水平，用于下一代半导体器件的单晶圆高温SPM
设备已成功通过关键客户验证。（2）电镀设备：公司已交付超1500电
镀腔，其三维堆叠电镀设备能够处理3DTSV及2.5DInterposer的高深
宽比铜电镀；前道大马士革铜互连电镀设备则适用于3D结构的FinFET、
DRAM和3DNAND所需工艺；后道电镀设备则能满足PillarBump、
RDL、HDFan-Out和TSV中的铜、镍、锡、银、金等电镀工艺。（3）
立式炉管设备：LPCVD已通过多家FAB验证并量产，ALD陆续进入客
户端验证。（4）涂胶显影设备：公司的UltraLith涂胶显影设备支持包
括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺，目前正在客户端进行
验证。（5）PECVD设备：已在客户端验证TEOS及SiN工艺。（6）无
应力CMP、刻蚀设备，有望陆续导入客户端验证。
◼盈利预测与投资评级：公司主业持续增长+产品品类不断拓展，我们上
调2025-2027年归母净利润为18.2/22.4/25.5（原值为15.5/18.7/20.7）亿
◼风险提示：下游扩产不及预期，研发进展不及预期。
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